Skip to main content Skip to main navigation menu Skip to site footer
  • Current
  • Archives
  • Announcements
  • About
    • About the Journal
    • Submissions
    • Editorial Team
    • Privacy Statement
    • Contact
Search
  • Portal de Publicações
  • EdUERJ
  • UERJ
  • Register
  • Login
  1. Home /
  2. Archives /
  3. Vol. 11 No. 15 (2012): Estilo, Discurso e Retórica

Vol. 11 No. 15 (2012): Estilo, Discurso e Retórica

					View Vol. 11 No. 15 (2012): Estilo, Discurso e Retórica

2° sem.: jul. - dez. / 2012

Data da publicação: dez. / 2012

Published: 2018-06-25

Apresentação

  • Apresentação da edição 15

    Comissão Editorial
    1
    • PDF (Português (Brasil))

Dossiê

  • Polifonia em Ana Z, aonde vai você?

    Simone Campos Paulino
    1-12
    • PDF (Português (Brasil))

Estudos livres

  • A arte de ensaiar com uma perspectiva científica

    Adriana Do Carmo Figueiredo
    1-14
    • PDF (Português (Brasil))
  • A linguística de corpus e o ensino de inglês – um estudo da produção escrita de aprendizes brasileiros

    Gustavo Estef Lino Da Silveira
    1-30
    • PDF (Português (Brasil))
  • Feliz 2011: banco não vende caridade; vende consultoria. Uma leitura crítico-interpretativa da propaganda de ano novo do banco Itaú

    Ailton Claècio Lopes Dantas
    1-17
    • PDF (Português (Brasil))
  • Memória discursiva e esquecimento: revisitando o chapéu de Clémentis

    Ludmila Belotti Andreu Funo
    1-11
    • PDF (Português (Brasil))

Expediente

  • Expediente da edição 15

    1-3
    • PDF (Português (Brasil))

Institucional

Make a Submission

Make a Submission
Language
  •   English
  •   Español (España)
  •   Português (Brasil)

Keywords

Information

  • For Readers
  • For Authors
  • For Librarians

Redes sociais

 


ISSN 1809-3507 | DOI: 10.12957/palimpsesto


Palimpsesto é uma publicação do corpo discente do Programa de Pós-Graduação em Letras da UERJ:

UERJ >> Instituto de Letras >> Programa de Pós-graduação em Letras


Licença Creative Commons

A Palimpsesto utiliza uma Licença Creative Commons - Atribuição-NãoComercial 4.0 Internacional.

More information about the publishing system, Platform and Workflow by OJS/PKP.