Uma análise sobre o prazo mínimo de patentes no Brasil

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DOI:

https://doi.org/10.12957/rqi.2022.71982

Resumo

Resumo

O presente artigo aborda aspectos relacionados a decisão do Supremo Tribunal Federal (STF), acerca da regra do parágrafo único do artigo 40 da Lei da Propriedade Industrial, sob o viés da garantia de estabilidade do marco regulatório. O trabalho se propõe investigar até que forma a decisão proferida pelo Supremo Tribunal Federal, nos autos da ADI 5529, pode afetar a confiança de empreendedores e do setor produtivo. Para isso, leva-se em consideração um olhar sobre as economias da Índia, China e Estados Unidos.

Palavras-chave: Pandemia; Patentes; Propriedade Intelectual; Marco Regulatório.

 

Abstract

This article addresses aspects related to the decision of the Federal Supreme Court in Brazil (STF), about the rule of the sole paragraph of article 40 of the Industrial Property Law, under the bias of guaranteeing the stability of the regulatory framework. The work proposes to investigate to what extent the decision handed down by the Federal Supreme Court, in the records of ADI 5529, can affect the confidence of entrepreneurs and the productive sector. For that matter, it is taken into consideration the economies of India, China and United States.

Keywords: Intellectual property; Pandemic; Patents; Regulatory Framework.

Biografia do Autor

Ricardo Luiz Sichel, Universidade Federal do Estado do Rio de Janeiro - UNIRIO

Professor Associado de Direito da Escola de Ciências Jurídicas da Universidade Federal do Estado do Rio de Janeiro (UNIRIO), Professor do Programa de Mestrado em Direito da Universidade Candido Mendes (UCAM), Procurador Federal aposentado do INPI, Mestre e Doutor em Direito da Propriedade Intelectual, pela Westfälische Wilhelms Univ., Münster (Alemanha).

Debora Lacs Sichel, Universidade Federal do Estado do Rio de Janeiro - UNIRIO

Professora Associada de Direito da Escola de Ciências Jurídicas da Universidade Federal do Estado do Rio de Janeiro (UNIRIO), Coordenadora da disciplina de Legislação Comercial do UFFRJ/CEDERJ, Mestre em Direito da Propriedade Intelectual pela UNESA,  Doutora em Sociologia pelo IUPERJ/RJ, pós-doutoranda da Universidad del Desarollo Sustentado - Espanha.

Gabriel Ralille, Universidade Federal do Estado do Rio de Janeiro - UNIRIO

bacharel em Relações Internacionais, graduando em Direito da Escola de Ciências Jurídicas da Universidade Federal do Estado do Rio de Janeiro (UNIRIO), integrante do Grupo de Pesquisa em Direito da Propriedade Intelectual

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Publicado

2022-12-31

Como Citar

Sichel, R. L., Sichel, D. L., & Ralille, G. (2022). Uma análise sobre o prazo mínimo de patentes no Brasil. REVISTA QUAESTIO IURIS, 15(4), 2311–2328. https://doi.org/10.12957/rqi.2022.71982

Edição

v. 15 n. 4 (2022): REVISTA QUAESTIO IURIS - VOL. 15, N°04

Seção

ARTIGOS/ARTICLES

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